美國BROOKS流量計(jì)GP200 系列金屬密封壓力式質(zhì)量流量控制器

所有的表現(xiàn)。沒有任何限制。
GP200 系列是第一款完全不敏感的基于壓力的質(zhì)量流量控制器 (P-MFC)，專為半導(dǎo)體制造中的先進(jìn)蝕刻和沉積工藝而設(shè)計(jì)。

GP200 系列 P-MFC 采用專利架構(gòu)，克服了傳統(tǒng) P-MFC 的局限性，即使在輸送低蒸氣壓工藝氣體時(shí)也能提供最精確的工藝氣體輸送。它包括幾個(gè)獨(dú)特的設(shè)計(jì)方面，包括與下游閥門架構(gòu)相結(jié)合的集成壓差傳感器，可在行業(yè)中最廣泛的操作條件下實(shí)現(xiàn)最精確的工藝氣體輸送。

由于 GP200 系列支持如此廣泛的工藝條件，它可以用作許多傳統(tǒng) P-MFC 和熱 MFC 的直接替代和升級(jí)。它降低了氣體輸送系統(tǒng)的復(fù)雜性和擁有成本，因?yàn)樗藢?duì)壓力調(diào)節(jié)器和傳感器等組件的需求。

特征

真正的差壓測(cè)量
降低入口壓力運(yùn)行
下游閥門結(jié)構(gòu)
匹配的瞬態(tài)響應(yīng)
零泄漏控制閥
MultiFlo TM技術(shù)提供了無與倫比的靈活性——一個(gè)設(shè)備可以針對(duì)數(shù)千種不同的氣體和流量范圍配置進(jìn)行編程，而無需從氣體管線中移除 MFC 或影響精度
本地顯示顯示流量、溫度、壓力和網(wǎng)絡(luò)地址
DeviceNet TM、EtherCAT®、RS-485 L-Protocol 和模擬接口

好處
通過消除匹配和補(bǔ)償兩個(gè)獨(dú)立壓力傳感器的要求，GP200 差壓技術(shù)降低了測(cè)量不確定性，從而提高了準(zhǔn)確性、可重復(fù)性和漂移性能。
由于專為低壓差測(cè)量而優(yōu)化的 GP200 差壓傳感器，現(xiàn)在使用 P-MFC 可以在較低的入口壓力下實(shí)現(xiàn)更安全的晶圓廠操作。
下游閥門結(jié)構(gòu)確保精度獨(dú)立于下游壓力，使流量輸送到高達(dá) 1200 Torr 的壓力?？焖訇P(guān)閉閥門解決了上游 MFC 閥門設(shè)計(jì)中出現(xiàn)的非生產(chǎn)性配方等待時(shí)間或“尾部效應(yīng)”，這些閥門需要額外的時(shí)間來排出其內(nèi)部氣體體積。
超快、高度可重復(fù)的上升和下降流動(dòng)穩(wěn)定時(shí)間可在先進(jìn)的高循環(huán)沉積和蝕刻工藝中實(shí)現(xiàn)更嚴(yán)格的工藝控制。
閥門關(guān)閉性能提高 100 倍
使用 MultiFlo TM，MFC 滿量程流量范圍通?？梢园?3:1 的系數(shù)重新按比例縮小，而不會(huì)影響精度、調(diào)節(jié)比或規(guī)格泄漏，以實(shí)現(xiàn)最佳工藝和庫存靈活性 
方便的用戶顯示和獨(dú)立的診斷/服務(wù)端口有助于設(shè)備安裝、監(jiān)控和故障排除

美國BROOKS流量計(jì)主要應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
蝕刻
化學(xué)氣相沉積 (CVD)
需要高純度全金屬流路的氣流控制應(yīng)用